Китай сообщил о создании прототипа EUV-литографа для производства чипов
Китай объявил о прорыве в EUV-литографии и рассчитывает наладить выпуск передовых микросхем без зависимости от западных технологий.
В Китае в начале 2025 года был создан прототип собственной EUV-литографической установки, необходимой для выпуска самых передовых микросхем. Об этом сообщили представители отрасли, подчеркнув, что именно эта технология долгое время оставалась главным барьером для развития национальной полупроводниковой промышленности.
По планам разработчиков, к 2028-2030 годам страна рассчитывает перейти к массовому производству чипов с использованием отечественных EUV-машин. Если сроки будут соблюдены, Китай сможет существенно сократить зависимость от зарубежных поставщиков ключевого оборудования.
EUV-литография считается одной из самых сложных и дорогих технологий в мире. Без нее невозможно серийное производство микросхем по самым тонким техпроцессам. Ранее доступ к таким установкам для китайских компаний был ограничен из-за экспортных запретов со стороны США и их союзников.
В отрасли отмечают, что до введения этих ограничений крупнейший китайский производитель чипов SMIC постепенно сокращал отставание от мировых лидеров, включая тайваньскую TSMC. Основной проблемой оставалось именно отсутствие EUV-оборудования.
За последние годы Китай активно развивал и другие высокотехнологичные направления, которые принято называть «промышленными коронами». Речь идет о турбовентиляторных авиационных двигателях, высокоточных станках с ЧПУ, мощных газовых турбинах и ряде других сложных отраслей.
Эксперты отмечают, что собственная EUV-литография может стать для Китая стратегическим шагом к технологическому суверенитету. В Пекине открыто заявляют о намерении выстроить полные производственные цепочки внутри страны, чтобы снизить уязвимость перед внешним давлением.
При этом специалисты подчеркивают, что от создания прототипа до стабильного серийного выпуска чипов мирового уровня предстоит пройти сложный путь. Он включает масштабирование производства, повышение надежности оборудования и отладку технологических процессов.
Тем не менее сам факт появления собственного EUV-литографа в Китае уже рассматривается как серьезный сигнал для мирового рынка полупроводников и подтверждение того, что глобальная технологическая конкуренция вступает в новый этап.