Прорыв в области оптической печати учеными МГУ
Российские ученые из МГУ имени Ломоносова разработали новый способ фотолитографии, позволяющий выйти вперёд в производстве электронных чипов.
Российскими учёными сделан, буквально, прорыв в области литографии сверхвысокого разрешения. Они представили новейшую свою разработку — электрохимическую рентгеновскую литографию. Этот новый способ бесконтактной печати в МГУ имени Ломоносова разработали как ответ на вызов, который был брошен производителями микроэлектроники.
Продукция микроэлектроники принимает всё меньшие размеры, и на этом пути она сталкивается с большими технологическими проблемами. Одна из них состоит в необходимости совершенствования видов литографии, необходимых для уменьшения размеров электроэлементов. В результате кропотливых исследований и точных расчетов российские учёные смогли совместить воздействие рентгеновского излучения, имеющее длину волны в единицы ангстрем, и электрохимический синтез.
В результате получилась сложная система электроосаждённого металлического никеля, выложенная на подложку из кремния с напыленным на ней слоем золота.
Не смотря на то, что новые разработки в этой области появляются часто, метод учёных из МГУ является сейчас самым продвинутым. Он может составить очень серьёзную конкуренцию зарубежным системам фотолитографии, которые в последнее время считались лидерами в гонке за наноразмерами.